赤外線ゴールドイメージ炉、ゼーベック係数測定装置(ZEM)など、アドバンス理工は多彩な熱技術をベースに未踏の分野に挑戦します。

加熱試験

赤外線ランプを用いた高速加熱・高速冷却での熱処理を行うことが可能です。試料を直接加熱するため、温度の立ち上がりが早く、処理枚数を飛躍的に延ばすことが可能です。

6inサイズまでのアニール処理

最大6インチウエハを対象とした加熱装置です。Si半導体や化合物半導体、ガラス基板などのプロセスにおける高速加熱/冷却を雰囲気可変下で行えます。

熱処理 測定温度範囲 測定雰囲気 試料形状、寸法
室温~1100℃ 大気中
不活性ガス中
その他の場合要相談
最大6インチウエハ

対応製品のご紹介

各種雰囲気下での加熱試験

各種材料のアニール、ガスクェンチなど急速/低速加熱処理を雰囲気可変下で行えます。

雰囲気可変
熱処理
測定温度範囲 測定雰囲気 試料形状、寸法
室温~1100℃ 大気中
不活性ガス中
その他の場合要相談
長50㎜×100㎜×厚1~10㎜
(形状に関して要相談)

対応製品のご紹介

小試験片の加熱試験

比較的小さな試料の急速加熱/冷却が、自在な雰囲気下でクリーンに行えます。

熱処理 測定温度範囲 測定雰囲気 試料形状、寸法
室温~1200℃ 大気中
不活性ガス中
その他の場合要相談
最大 角20㎜×厚2㎜
最大 角50㎜×厚5㎜
室温~1000℃ 真空中 最大 角20㎜×厚2㎜

対応製品のご紹介

 

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