赤外線ゴールドイメージ炉、ゼーベック係数測定装置(ZEM)など、アドバンス理工は多彩な熱技術をベースに未踏の分野に挑戦します。

熱電測定

材料単体での性能指数を図るために必要なゼーベック係数・電気抵抗率・熱伝導率の評価測定をすることが出来ます。

ゼーベック係数・電気抵抗率

半導体系、セラミックス系、金属系の材料の熱電特性(ゼーベック係数と電気伝導率)の測定が行えます。

ゼーベック係数・電気抵抗率 測定温度範囲 測定雰囲気 試料形状、寸法
室温~800℃ 低圧ヘリウム中 固体
角またはφ2~4㎜ × 長5㎜~22㎜
薄板状:幅2~4㎜×長10~16㎜×厚30~500μm
フィルム状:要相談

対応製品のご紹介

レーザフラッシュ法 熱伝導率・熱拡散率・比熱

金属、セラミックス、高分子などの固体材料の測定が、安定かつ再現性良く測定できます。
さらに高分子フィルムの熱拡散率測定が可能です。また、2次元法にて面方向の熱拡散率の測定ができます。

熱伝導率(厚さ方向) 測定温度範囲 測定雰囲気 試料形状、寸法
室温 大気中、真空中、不活性ガス中

φ10㎜または角7㎜×厚1~3㎜
*厚さに関してはご相談ください

50℃~1000℃

真空中または不活性ガス中
熱拡散率(厚さ方向) 測定温度範囲 測定雰囲気 試料形状、寸法
室温 大気中、真空中、不活性ガス中

φ10㎜または角7㎜×厚1~3㎜
*厚さに関してはご相談ください

50℃~1200℃ 真空中または不活性ガス中
2次元法熱拡散率(面方向) 測定温度範囲 測定雰囲気 試料形状、寸法
室温 大気中 角25~30㎜×厚0.1~1㎜
*厚さに関してはご相談ください
多層解析(熱拡散率) 測定温度範囲 測定雰囲気 試料形状、寸法
    2層または3層

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キセノンフラッシュ法 熱拡散率

熱伝導性高分子の熱物性評価に最適です。
放熱フィルムなどの厚さ方向や面内異方性評価が可能です。

熱拡散率(厚さ方向) 測定温度範囲 測定雰囲気 試料形状、寸法
室温~300℃ 大気中 φ10㎜、φ20㎜、
角10㎜×厚0.1~2㎜
※試料に依存
多層解析 測定温度範囲 測定雰囲気 試料形状、寸法
    2層または3層

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2ω法熱伝導率

ナノ薄膜の厚さ方向の熱伝導率評価
基板上の絶縁薄膜(SiO2 、有機フィルムなど)の厚さ方向の熱伝導率測定が可能です。

熱伝導率(厚さ方向) 測定温度範囲 測定雰囲気 試料形状、寸法
26℃ 真空中 10mm×長さ20㎜
絶縁膜厚20~1000nm
※要相談
基板厚0.5~1㎜
※要相談

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定常法 熱伝導率

プラスチック、ガラス、ゴム、木材、セラミックス、複合材料、ガスケット、金属合金、保温材、断熱材等の低~中熱伝導材の測定が行えます。

熱伝導率 測定温度範囲 測定雰囲気 試料形状、寸法
30℃~280℃ 大気中 基板状:角25㎜×厚1.5~8㎜
フィルム状:角25㎜×厚さ100μm~1000μm

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サーマルプローブ熱伝導率・熱拡散率・比熱ゼーベック係数(相対評価のマッピング)

ゼーベック係数と熱伝導率を同時に評価できる分布測定装置です。同時評価により熱電特性の簡易評価が可能です。
また、傾斜機能材料、多層基板、有機材料の熱伝導性分布評価も可能です。

ゼーベック係数
熱伝導率分布測定
測定温度範囲 測定雰囲気 試料形状、寸法
室温+5℃ 大気中 角20㎜×厚5㎜以下

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