赤外線ゴールドイメージ炉、ゼーベック係数測定装置(ZEM)など、アドバンス理工は多彩な熱技術をベースに未踏の分野に挑戦します。
製品案内

超高真空卓上型ランプ加熱装置 MILA-5000UHV

コンパクトながら高真空の対応が可能。
MILA-5000-P-Nをベースに高速加熱・高速冷却、温度の精密制御、クリーンな加熱、自在な雰囲気選択などMILA-5000シリーズの特長に加え超高真空対応をコンセプトに誕生しました。加熱操作をパソコン上で行え手軽にデータ管理出来ます。

用途

  • 超高真空中での熱処理
  • 昇温脱離ガス分析用炉

特長

  • 超高真空の雰囲気での熱処理
  • 10⁻⁵Paまで対応(TMP使用時)
  • MILA-5000-P-N(高温型)の性能を継承

仕様

型式 MILA-5000 UHV
温度範囲 室温~1200℃(MAX)
試料寸法 角20mm×厚2mm
測定雰囲気 大気中、高真空中、不活性ガス中
アプリケーション 真空排気装置(ロータリーポンプセット)
冷却水循環ユニット

お気軽にお問い合わせください。

Search

アドバンス理工株式会社 Copyright © ADVANCE RIKO, Inc. All Rights Reserved.