赤外線ゴールドイメージ炉、ゼーベック係数測定装置(ZEM)など、アドバンス理工は多彩な熱技術をベースに未踏の分野に挑戦します。
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赤外線ランプ加熱装置 QHCシリーズ

太陽電池から化合物半導体等のプロセス開発に。
QHCシリーズは赤外線ゴールドイメージ炉と温度コントローラを組合せ、さらに石英の熱処理チャンバをコンパクトに装備した高速加熱・高速冷却装置です。加熱操作をパソコン上で行え手軽にデータ管理出来ます。

用途

  • 太陽電池基板の熱処理
  • 水素雰囲気下での熱処理
  • 各種材料の基礎研究用雰囲気アニール・熱処理シミュレータ
  • ガスクェンチ熱処理
  • 熱サイクル試験 熱衝撃試験
  • 半導体材料の焼成、アニール条件の検討
  • 2インチウェハ研究用アニール
  • セラミックスのO₂量制御雰囲気での熱処理

特長

  • 高速加熱から低速加熱まで幅広い条件設定
  • 多段ステップ サイクル加熱
  • ガス冷却機構による高速ガスクェンチ、クーリングコントロール
  • パソコンによる手軽なデータ管理

仕様

型式 QHC-E410 QHC-P610 QHC-P616
温度範囲 室温~1400℃ 室温~1200℃ 室温~1200℃
熱処理ゾーン φ15mm×長100mm φ50mm×長100mm φ50mm×長150mm
均熱ゾーン(保持時目安) φ10mm×80mmL φ40mm×80mmL φ40mm×120mmL
測定雰囲気 大気中、ガス中、ガスフロー中、真空中(真空排気系はオプション)
アプリケーション ロータリーポンプ排気セット
冷却水循環装置
特殊仕様装置で高真空対応も可能

お気軽にお問い合わせください。

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