赤外線ゴールドイメージ炉、ゼーベック係数測定装置(ZEM)など、アドバンス理工は多彩な熱技術をベースに未踏の分野に挑戦します。
製品案内

赤外線ゴールドイメージ炉 RHL-Eシリーズ

赤外線ランプ加熱でお客様のニーズにお応えします。
赤外線ゴールドイメージ炉は研究開発や生産装置としてさまざまな分野でご利用頂いております。高速加熱からワイドエリアの加熱までお客様のニーズにお応えします。

用途

  • Si、化合物半導体のRTA
  • ガラス・セラミック基板のアニール炉
  • 金属の雰囲気焼鈍炉
  • 複合材料の耐熱評価炉
  • 高温引張・圧縮試験用加熱炉

特長

  • 楕円反射面を有し高温まで高速加熱することが可能

仕様

型式 RHL-E25P RHL-E210P RHL-E45P RHL-E48 RHL-E410P RHL-E416
温度範囲 室温~1300℃ 室温~1300℃ 室温~1400℃ 室温~1400℃ 室温~1400℃ 室温~1400℃
熱処理ゾーン φ7mm×
40mm
φ7mm×
80mm
φ10mm×
40mm
φ10mm×
60mm
φ10mm×
80mm
φ10mm×
130mm
アプリケーション 冷却水量、最大加熱温度は加熱物の材質・加熱チャンバにより変わります。
加熱ゾーンは参考値です。

お気軽にお問い合わせください。

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