赤外線ゴールドイメージ炉、ゼーベック係数測定装置(ZEM)など、アドバンス理工は多彩な熱技術をベースに未踏の分野に挑戦します。
製品案内

赤外線ゴールドイメージ炉 RHL-Pシリーズ

赤外線ランプ加熱でお客様のニーズにお応えします。
赤外線ゴールドイメージ炉は研究開発や生産装置としてさまざまな分野でご利用頂いております。高速加熱からワイドエリアの加熱までお客様のニーズにお応えします。

用途

  • Si、化合物半導体のRTA
  • ガラス・セラミック基板のアニール炉
  • 金属の雰囲気焼鈍炉
  • 複合材料の耐熱評価炉
  • 高温引張・圧縮試験用加熱炉

特長

  • 放物反射面を有し平行赤外光により広い面積を均一に加熱することが可能。

仕様

型式 RHL-P410C RHL-P65C RHL-P68C RHL-P610C RHL-P616C RHL-P810C
温度範囲 室温~1350℃ 室温~1200℃ 室温~1200℃ 室温~1200℃ 室温~1200℃ 室温~1100℃
熱処理ゾーン φ20mm×
80mm
φ40mm×
40mm
φ40mm×
60mm
φ40mm×
80mm
φ40mm×
130mm
φ50mm×
80mm
アプリケーション 冷却水量、最大加熱温度は加熱物の材質・加熱チャンバにより変わります。
加熱ゾーンは参考値です。

お気軽にお問い合わせください。

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