赤外線ゴールドイメージ炉、ゼーベック係数測定装置(ZEM)など、アドバンス理工は多彩な熱技術をベースに未踏の分野に挑戦します。
製品案内

赤外線ゴールドイメージ炉/RTA装置

赤外線ランプを用いた高速加熱・高速冷却での熱処理を行うことが可能です。抵抗炉と比較し温度の立ち上がりが早く、処理枚数を飛躍的に延ばすことが可能です。試料サイズに応じたランプアニールを行うことが出来ます。

赤外線ゴールドイメージ炉 RHL-Eシリーズ

赤外線ランプ加熱でお客様のニーズにお応えします。
赤外線ゴールドイメージ炉は研究開発や生産装置としてさまざまな分野でご利用頂いております。高速加熱からワイドエリアの加熱までお客様のニーズにお応えします。

赤外線ゴールドイメージ炉 RHL-Pシリーズ

赤外線ランプ加熱でお客様のニーズにお応えします。
赤外線ゴールドイメージ炉は研究開発や生産装置としてさまざまな分野でご利用頂いております。高速加熱からワイドエリアの加熱までお客様のニーズにお応えします。

赤外線ゴールドイメージ炉 VHT-Eシリーズ

赤外線ランプ加熱でお客様のニーズにお応えします。
赤外線ゴールドイメージ炉は研究開発や生産装置としてさまざまな分野でご利用頂いております。
高速加熱からワイドエリアの加熱までお客様のニーズにお応えします。

赤外線ゴールドイメージ炉 Ps,Pssシリーズ

カーボンナノチューブの生成装置や生産装置まで幅広い分野でご利用可能。
平板面状放射型赤外線加熱炉はφ2in~φ300mmまでのウエハ用アニールシステムや生産用焼成炉などにご利用頂けます。

生産用熱処理炉(ライン設備)

熱処理目的に応じた加熱システム形成。
本装置は部材の形状とプロセス上の熱処理目的に応じて加熱炉及び加熱システムが形成されます。
高速加熱・高速冷却、クリーン加熱を最大限活用し無公害・省エネルギ・高機能化に適した加熱炉を提供致します。

プログラム温度コントローラー TPC-5000シリーズ

高速加熱に精度よく対応可能な温調器。
高速昇温時の早いレスポンスが要求される赤外線ゴールドイメージ炉はもとより低速昇温炉用にも対応できるプログラム温度制御器です。
高機能・高性能をコンパクトにパッケージし、豊富なアクセサリーを揃えて低価格でお応えします。

卓上型ランプ加熱装置 MILA-5050

 本装置は、試料寸法50mm 角までの熱処理を可能とした卓上型ランプ加熱装置です。
試料寸法20mm 角までの加熱装置として、卓上型ランプ加熱装置MILA-5000 シリーズを発売以来、多くのお客様にご愛用いただいておりますが、「もう少し大きい試料の熱処理がしたい」というお客様のご要望にお応えし、加熱炉、チャンバ、温度制御器を一体にしたコンパクトなボディはそのままに、50mm 角までの熱処理を可能といたしました。

卓上型ランプ加熱装置 MILA-5000シリーズ

小サンプルの研究開発に最適。
高速加熱・高速冷却、クリーン加熱が行えます。
自在な雰囲気下で加熱する事が可能で温度コントローラと雰囲気可変チャンバが一体化した小型で低価格な赤外線ランプ加熱装置です。
加熱操作をUSB接続によりパソコン上で行え手軽にデータ管理出来ます。

空冷卓上型ランプ加熱装置 MILA-700AR

冷却水を使わない卓上型ランプ加熱装置。
冷却は空冷ファン採用なので壁コンセントさえあれば直ちに加熱が出来ます。

赤外線ランプ加熱装置 QHCシリーズ

太陽電池から化合物半導体等のプロセス開発に。
QHCシリーズは赤外線ゴールドイメージ炉と温度コントローラを組合せ、さらに石英の熱処理チャンバをコンパクトに装備した高速加熱・高速冷却装置です。加熱操作をパソコン上で行え手軽にデータ管理出来ます。

雰囲気可変型ランプ加熱装置 VHCシリーズ

太陽電池から化合物半導体等のプロセス開発に。
VHCシリーズはQHCシリーズの機能に加えて真空排気系とピラニ真空計が搭載されています。
加熱操作をパソコン上で行え手軽にデータ管理出来ます。お客様のニーズに合わせたカスタマイズが可能です。

簡易型赤外線ランプ加熱装置 SSAシリーズ

赤外線ゴールドイメージ炉と石英チャンバの簡易型装置。
赤外線ゴールドイメージ炉及び試料ホルダを含んだ石英チャンバから構成される低価格の加熱システムです。

赤外線ランプ加熱装置 RTP-6

最大6インチまでのランプアニール装置。
個別半導体プロセスのシリサイド形成や化合物半導体のプロセスアニールが可能です。

赤外線ランプアニール装置 RTAシリーズ

2inから300mmまでの高速熱処理。保持まで10秒。
高速加熱技術を結集し、研究開発から生産用までお客様のニーズにお応えした装置を製造・販売いたします。最大温度1450℃の高温雰囲気下での加熱も対応いたします。

超高温ランプアニール装置 HT-RTA59HD

SiCなど高価な試料やその他高融点材料の小片試料をスポット加熱による高い反射効率で、超高温領域1800℃まで昇温可能な卓上型超高温ランプアニール装置です。

 

 

スポット集光型赤外線ゴールドイメージ炉 MIROシリーズ

1800℃まで高速1分で昇温。
コンパクトで1800℃まで昇温可能な赤外線ゴールドイメージ炉です。ゾーンメルティングやSicパワーデバイスの基礎実験に使用することが可能です。

単結晶生成/ゾーンメルティング試験装置 FZM-1500

簡易的に単結晶生成/ゾーンメルト試験が可能。
本装置はスポット集光型赤外線ゴールドイメージ炉MR39H/D型を利用した試験装置です。
試料回転機構と炉体上下移動機構の組合せで単結晶生成試験やゾーンメルティング試験を行うことができる卓上型のコンパクトな試験装置です。

鋼板用 高速熱処理試験装置 CASシリーズ

CASシリーズは赤外線ゴールドイメージ炉の使用によって急速加熱や急速冷却、試験片の直接温度制御、簡便な雰囲気生成などを実現し、鉄鋼材料においていままで困難であったプロセスの熱処理シミュレーションを高精度に実現できる装置です。
薄板鋼板をはじめ厚板鋼板、ステンレス板、電磁鋼板などの汎用熱処理試験からプロセス熱処理シミュレーション試験まで対応しています。
鋼板の変態点が簡易に割り出せるCASシリーズは赤外線ゴールドイメージ炉の使用によって高速加熱・高速冷却、試験片の直接温度制御、簡便な雰囲気生成などを実現し、鉄鋼材料においていままで困難であったプロセスの熱処理シミュレーションを高精度に実現できる装置です。
薄板鋼板をはじめ厚板鋼板、ステンレス板、電磁鋼板などの汎用熱処理試験からプロセス熱処理シミュレーション試験まで対応しています。

超高真空卓上型ランプ加熱装置 MILA-5000UHV

コンパクトながら高真空の対応が可能。
MILA-5000-P-Nをベースに高速加熱・高速冷却、温度の精密制御、クリーンな加熱、自在な雰囲気選択などMILA-5000シリーズの特長に加え超高真空対応をコンセプトに誕生しました。加熱操作をパソコン上で行え手軽にデータ管理出来ます。

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