赤外線ゴールドイメージ炉/RTA装置
ランプ加熱は高速加熱・高速冷却。格段の処理速度！
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生産用熱処理炉(ライン設備)
熱処理目的に応じた加熱システム形成。本装置は部材の形状とプロセス上の熱処理目的に応じて加熱炉及び加熱システムが形成さ…
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超高温ランプアニール装置 HT-RTA59HD
小片試料を1800℃まで10秒で昇温SiCなど高価な試料やその他高融点材料の小片試料をスポット加熱による高い反射効率で、超高温…
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赤外線ランプクエンチ装置 CAS-MR59AQ
材料の加熱後に試料を落下させ、水クエンチ不活性ガス雰囲気中で最高1800 ℃まで加熱可能
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スポット集光型赤外線ゴールドイメージ炉 MIROシリーズ
スポット集光で超高温熱処理。回転楕円反射面をもち、シングル又はダブルタイプのチャンバと組合せることにより、極めて高い…
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雰囲気可変型ランプ加熱装置 QHCシリーズ/VHCシリーズ
太陽電池/化合物半導体等のプロセス開発や様々なアプリケーションとセットアップが可能。QHC・VHCシリーズは赤外線ゴールドイ…
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簡易型赤外線ランプ加熱装置 SSAシリーズ
赤外線ゴールドイメージ炉と石英チャンバの簡易型装置。赤外線ゴールドイメージ炉及び試料ホルダを含んだ石英チャンバから構…
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空冷卓上型ランプ加熱装置 MILA-700AR
冷却水を使わない卓上型ランプ加熱装置。冷却は空冷ファン採用なので、壁コンセント（AC100V）さえ有れば直ちに加熱が出来ま…
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卓上型ランプ加熱装置 MILA-5000シリーズ
MILA-5000シリーズは赤外線ゴールドイメージ炉の特長である高速加熱･冷却､クリーン加熱が行なえます｡自在な雰囲気下で加熱す…
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卓上型ランプ加熱装置 MILA-5050
本装置は、試料寸法50mm 角までの熱処理を可能とした卓上型ランプ加熱装置です。 試料寸法20mm 角までの加熱装置として、卓上…
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赤外線ランプ加熱装置 RTP-6
低コストで80℃/sの高速アニールが可能。本装置は、放物面反射赤外線ランプにより、4-6インチサイズのウエハを均一に加熱する…
