半导体の装置一覧
红外加热炉既可以进行清洁、快速的加热和冷却,又可以进行精确的温度控制。
此外,还可以在特殊气氛下处理样品,例如惰性气体、NH3 和氢气等。我们可提供满足不同尺寸样品的设备,以及可通过机器人传送进行自动热处理设备。
我们可以涵盖从基础研究到量产,以及质量检查的一系列设备。
此外,我们还可以为 SiC・GaN 和下一代半导体的金刚石半导体的高速加热/冷却、离子注入后的扩散退火、电极电阻降低以及氧化物/氮化物形成的退火提供合适的系统。
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HT-RTA59HD 超高温快速退火系统
10s内可将样品加热到1800℃ HT-RTA59HD是一款桌面型的超高温点聚型快速退火炉,可在10s内将样品的温度升至1800℃。
