纳米颗粒沉积の装置一覧

通过使用脉冲电弧等离子体放电（Pulse Arc Plasma Discharge, PAPD）方法，可以在真空环境中（干法工艺）在基板或粉末上形成金属纳米颗粒。该方法能够实现纳米级薄膜厚度控制、纳米颗粒尺寸控制以及通过多元素沉积（最多可达六种元素）实现纳米颗粒的合金化，这些效果是其他沉积方法难以达到的。

该技术具有广泛的应用前景，包括：

提升各种催化剂的活性：通过精确控制纳米颗粒的尺寸和组成，可以显著提高催化剂的性能。
金属涂层：用于制备高性能金属涂层，适用于多种工业应用。
纳米颗粒的精准合成：实现对纳米颗粒形态和组成的精确控制，适用于先进材料的研究与开发。