半導体の装置一覧

赤外線ランプ加熱炉を搭載し､クリーンかつ急速加熱・冷却に加えて緻密な温度制御
が可能です。また、チャンバー内で、不活性ガスやアンモニア・水素中などの異種ガス対応も可能であり、小片サイズ～大口径､ロボット搬送による自動熱処理まで様々なニーズにマッチしたラインナップを提案できます。
基礎研究から量産化､品質検査までの一連の流れをカバーしております｡
SiC・GaNや次世代半導体のダイヤモンド半導体の高速加熱冷却や､イオン注入後の拡散アニール、電極の低抵抗化、酸化膜/窒化膜の生成アニールなどに最適です｡