1×10-8/K以下的膨胀精度的世界
世界上最高的超高精度热膨胀测量 *作为市售量产型测量装置
使用案例
- 零膨胀材料的研制
- 负极负热膨胀材料的研制
- 标准材料开发
- 致动器材料的开发
本装置は、直線偏向型He-Neレーザによる二重光路式マイケルソン型干渉計を用いた高感度熱膨張計で、装置内部に除振メカニズムを内包することで、振動外乱の影響を防ぐ機能を有しています。そのため一般的な分析用電子天秤（分解能0.01mg）を安定使用出来る程度の環境で、熱膨張係数を1×10-8/K以下の精度で測定することが出来ます。低膨張率材料の熱膨張率の絶対測定やそれらの材料開発支援、生産ラインにおける品質管理にもご利用いただけます。
二重光路マイケルソンレーザ光干渉法を用いた熱膨張計のLIXシリーズは、熱膨張係数の絶対値を測定できる業界唯一の市販モデルです。
本測定法は、低膨張ガラスの熱膨張率測定方法のJIS（JIS R3251-1990）に準拠しています。
用途
- 10-8/K级极低膨胀系数材料（玻璃，陶瓷，金属等）的高精度膨胀测量
-半导体生产装置光学曝光元件的测量
-测量精密载物台零件
-航空航天相关高精度所需材料的测量
-高精度光图基板构件的测量 - 低膨胀系数材料的质量控制
- 标准热膨胀仪校准样品的测量
特長
- 通过在设备中包括振动消除机构，可以防止振动扰动的影响，并且可以在能够稳定使用普通电子天平（0.01毫克分辨率）进行分析的环境中进行测量。（日本特愿2016-058190、058191、058192）
- 测量样品相对于激光波长（632.8 nm）的位移量。集成光学元件可以消除杂散光，提高干涉条纹信号的信噪比。不需要特殊位移校准的测量和操作。
- 通过用图像传感器检测干涉条纹并对其进行图像处理，即使在样品测量过程中，也可以以高分辨率（1纳米）计算位移（膨胀/收缩）量，并确认膨胀系数。
专利和标准
符合JIS R3251-1990标准
特愿2016-058190、058191、058192
仕様
| 型式 | SuperLIX-R | 温度范围 | 标准0-50°C（采用高精度恒温循环系统） | 样品尺寸 | φ5或角5±0.5 mm×12-20 mm长 （标准样品尺寸为5×20mmL，端面R加工为标准样品） |
测量气氛 | 减压He气氛 | 测量方法 | 双光路迈克尔逊激光干涉系统 |
|---|
实用程序
| 占地面积 | 约1200mm(W)×760mm(D)×1600mm(H) ※拆除腔室时需要超过2500mm(H)的空间 |
|---|---|
| 所需电源 |
PC（显示器、机身）：2个AC100V 15A（插座，接地） 排气系统 ：AC200V 三相15A 1 个地方 气体导入系统 ：1个AC100V单相15A 恒温水循环器 ：1个AC100V 15A（插座，接地） |
| 所需接地 | 1个D型（接地电阻100欧姆或更低） |
测量示例
低膨胀陶瓷的测量例子
金属（超级因瓦）的测量示例
