MILA-5000 系列桌面型快速退火炉

MILA-5000系列
MILA-5000系列加热炉体使用红外金面退火炉,可以进行快速升降温,洁净加热。MILA-5000系列将温控器与石英加热腔集成于一体的经济型退火炉,可以在不同的气氛下进行加热。可通过USB连接电脑并进行监测与加热程序设置。

MILA-5000UHV
MILA-5000UHV是一款在MILA-5000-P-N(高温型)基础上升级的一款高真空型退火炉。该系列继承了MILA-5000系列的的特点:快速升降温,洁净加热,可在不同的气氛下加热。同样可以通过USB连接PC进行温度监测与加热程序设置。

用途

MILA-5000系列

  • 铁电薄膜的晶体退火。
  • 离子注入后的扩散退火,氧化膜沉积退火。
  • 硅和复合晶片的烧结,合金化处理。
  • 玻璃基板温度均匀退火。
  • 热循环,热冲击,热疲劳测试。
  • 程序升温解吸测试,催化效果测试。

MILA-5000UHV

  • 在超高真空中进行热处理。
  • 程序升温解吸气体分析炉。

特長

MILA-5000系列

  • 1. 50℃/S的快速升温.
  • 2. 可在真空,惰性气体,流动气氛,空气的气氛下进行加热
  • 3. 精确的温度控制
  • 4. 紧凑,桌面型设计
  • 5. 通过USB连接电脑与炉体,可进行温控程序的编辑与传输
  • 加热过程中可通过电脑监测加热数据

MILA-5000UHV

  • 可进行超高真空的热处理
  • 搭配分子泵,真空度可达到10-5Pa
  • 继承了MILA-5000-P-N的全部特点
  • 紧凑,桌面型设计
  • 通过USB连接电脑与炉体,可进行温控程序的编辑与传输
  • 加热过程中可通过电脑监测加热数据

仕様

MILA-5000系列

型号 MILA-5000-P-N
(高温型)
MILA-5000-P-F
(均匀加热型)
控温范围 RT ~ 1200 °C RT ~ 800 °C
样品尺寸 □ 20 × t 2 (mm)
加热气氛 空气,静态气氛,流动气氛,真空

* 真空泵可选
* 加热温度or升温速率根据被加热样品的红外反射率,吸收率,热容和材料而变化。

高真空型

型号 MILA-5000UHV
控温范围 RT ~ 1000 °C
样品尺寸 □ 20 × t 2 (mm)
加热气氛 空气,静态气氛,流动气氛,真空

* 真空泵可选
* 加热温度or升温速率根据被加热样品的红外反射率,吸收率,热容和材料而变化。

オプション例

高温型

MILA-5000-P-N 最快升温速率
样品:W20×L20×t0.5(㎜) 镍板
加热气氛:真空
Rating : 200V 4kW, 100%output is not

MILA-5000-P-N 温度分布
样品:W20×L20×t0.5(㎜) 镍板
加热气氛:真空
测温方式:K型热电偶

Uniform heating type

MILA5000-P-F最快升温速率
样品:W20×L20×t0.5(㎜) 镍板
加热气氛:真空
Rating : 200V 1kW, 100%output is not necessay

MILA-5000-P-F 温度分布
样品:W20×L20×t0.5(㎜) 镍板
加热气氛:N2流动气氛
测温方式:K型热电偶

高温型

MILA5000-P-N型最高昇温速度
サンプル :  W20×L20×t0.5(㎜) Ni板材
雰囲気 : 真空中
定格 : 200V4kW100%出力

MILA5000-P-N型温度分布
サンプル : W20×L20×t0.5(㎜) Ni板材
雰囲気 : 真空中
TC(K)測定点

均熱型

MILA5000-P-F型最高昇温速度
サンプル : W20×L20×t0.5(㎜) Ni板材
雰囲気 : 真空中
定格 : 200V1kW100%出力

MILA5000-P-F型温度分布
サンプル : W20×L20×t0.5(㎜) Ni板材
雰囲気 : N2ガスフロー中
TC(K)測定点

 

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