卓上型ランプ加熱装置
MILA-5000シリーズ

MILA-5000シリーズは赤外線ゴールドイメージ炉の特長である高速加熱･冷却､クリーン加熱が行えます｡自在な雰囲気下で加熱する事が可能で温度コントロｰラと雰囲気可変チャンバが一体化した小型で低価格な赤外線ランプ加熱装置です｡
加熱操作をUSB接続によりパソコン上で行なえ､手軽にデータ管理出来ます。

用途

強誘電体薄膜の結晶アニール
イオン注入後の拡散アニール、酸化膜生成アニール
Si、化合物ウェハのシンタリング、アロイング処理
ガラス基板の均熱アニール
熱サイクル、熱衝撃、熱疲労試験
昇温脱理試験用加熱炉
触媒効果試験

特長

真空中、ガス中、ガスフロー中、大気中と任意の雰囲気選択
精密な温度コントロール
卓上型でコンパクトな設計
お手持ちのパソコンから温度プログラム設定や外部信号の入力が、簡単に実行可能
加熱中の温度データをパソコン上に表示する事が可能

仕様

型式	MILA-5000-P-F （均熱型）	MILA-5000-P-N （高温型）	MILA-5000UHV （高温・高真空型）
温度範囲	RT ～ 800℃	RT ～ 1200℃	RT ～ 1000℃
試料寸法	角 20mm × 厚 2mm
加熱雰囲気	大気中、低真空中、不活性ガス中		大気中、高真空中、不活性ガス中
プロセス圧力	10Pa～大気圧（RP^*1使用、室温無負荷）		10^-4Pa～大気圧（TMP^*1使用、室温無負荷）

※1：真空排気装置はオプション
※2：加熱温度は、加熱物の赤外線反射・吸収、熱容量と材質により異なります。

オプション例

試料観察用CCDカメラユニット

加熱中の試料を観察

試料観察用CCD カメラユニットを取り付ければ、加熱時の試料の変化をパソコンに取り込めます。

電気抵抗測定ユニット

熱処理しながら電気抵抗率測定

電気抵抗測定ユニットに差し替え、お手持ちのデジタルマルチメータにつなぐだけで、加熱しながら電気抵抗率の測定が可能です。

液体窒素ミスト急速冷却ユニット

液体窒素ミスト吹き付けによる急速冷却

1000℃から0℃まで、わずか2秒で急冷ができます。

高温型

MILA5000-P-N型最高昇温速度
サンプル : 　W20×L20×t0.5（㎜）　Ni板材
雰囲気 : 真空中
定格 : 200V4kW100%出力

MILA5000-P-N型温度分布
サンプル : W20×L20×t0.5（㎜）　Ni板材
雰囲気 : 真空中
TC（K）測定点

均熱型

MILA5000-P-F型最高昇温速度
サンプル : W20×L20×t0.5（㎜）　Ni板材
雰囲気 : 真空中
定格 : 200V1kW100%出力

MILA5000-P-F型温度分布
サンプル : W20×L20×t0.5（㎜）　Ni板材
雰囲気 : N2ガスフロー中
TC（K）測定点

論文リスト

印加掃引バイアス累積による BaTiO3 薄膜リーク電導特性の制御
DOI：https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2018.2.0_1324

Layer-by-Layer 焼成雰囲気における BaTiO3 薄膜の抵抗変化型メモリ特性向上の研究
DOI：https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2016.1.0_1385

ReRAM 用 BaTiO3 薄膜の強誘電性と抵抗ヒステリシス特性の関係の検討
DOI：https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2016.2.0_1221

MLCC 微細化検討用 BaTiO3 薄膜ダイオードの作製とリーク電導特性の評価
DOI：https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2018.1.0_1406

ナノすきま潤滑計測のための微小ガラス球を用いたマイクロプローブの開発
DOI：https://doi.org/10.1299/jsmeiip.2017.H-02

加水分解法と電着法の組合せによるナノ酸化タングステン粒子分散ナノ結晶ニッケルの作製
DOI：https://doi.org/10.2320/jinstmet.J2015035

炭酸ガスレーザー照射による樹脂成形体表面への導電性パターン形成の試み
DOI：https://doi.org/10.4325/seikeikakou.24.341

放射線を利用した非貴金属系ナノ粒子の合成および酸

Ti-Ni-Zr 高成形性形状記憶合金のマイクロ折りたたみ構造の作製
DOI：https://doi.org/10.1299/jsmemecj.2017.J2220105

Ti-Ni-Zr 高成形性形状記憶合金のマイクロ成形加工
DOI：https://doi.org/10.1541/ieejfms.141.64

MOD 法による炭素熱還元を用いた VO2 薄膜の作製条件の検討
DOI：https://doi.org/10.1299/jsmemecj.2016.J2240105

MOD 法による Zr および Nb 添加 VO2 薄膜の作製と特性評価
DOI：https://doi.org/10.1541/ieejeiss.144.1059

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