赤外線ランプ加熱装置 RTP-mini

本装置は、既存の赤外線加熱装置 RTP-6 をコンパクトな卓上型にした装置です。
従来の熱排気ユニットを削除し、冷却ファンを採用した事で、効率良い冷却と騒音低減で静音加熱を実現しました。

特長

  • 小片チップ、2、4、6インチまでの薄板ウェハの高速加熱が可能
  • 専用のプログラムソフトで温度レシピの簡単入力
  • 冷却ファンによる騒音の大幅低減を実現
  • 冷却水フローチェッカーを取り付け、安全対策を実現
  • プロセスガス(N2ガス)用にマスフローコントローラ付き
  • PLC、温調器、タッチパネル、過昇温度 等、制御系の充実

仕様

温度範囲 RT~1000℃ max.1100℃
試料寸法 標準 φ6 インチウエハ1 枚(その他 ウェハ形状は別途相談)
雰囲気 N2ガスフロー中、真空中(真空排気装置はオプション)
最大加熱速度 10℃/s (SiC コートカーボンサセプタ使用)
均熱精度 ΔT=10℃ 800℃ 保持時2分後、N 2 ガスフロー中
(SiC コートカーボンサセプタ使用)
制御センサ 熱電対JIS ーK

ユーティリティ

装置寸法 約W600 × D660 × H780 (mm)
重量 約100 kg
所要電源 三相AC200V、100A
所要冷却水 16L/min 以上、0.3MPa 以上、0.4MPa 以下
(圧力は設置環境により変わります)
冷却水取合い φ19×φ26 テトロンブレードホース用カンタッチ継手渡し
真空引口 KF-16渡し

系統図

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