赤外線ランプ加熱でお客様のニーズにお応えします。
大小様々な対象物の加熱で研究開発や生産装置、さまざまな分野でご利用いただいてます。

用途

• 太陽電池、CIGS、CZTS 用アニール
• SiC パワーデバイスのアニール
• 金属材料の焼入、焼なまし
• セラミックス材料の熱衝撃試験
• ろう付用熱処理
• 触媒用加熱炉（ガス分析）

特長

• E型：楕円反射面を有し、焦点へ集光する(線集光)ことにより高温、高速加熱することが可能
• VHT型：楕円反射面を有する超高温モデル。最高1800℃までの加熱が可能
• P型：放物反射面を有し平行光により広い面積を均一に加熱することが可能

仕様

• E型
• VHT型
• P型

＊1 型式番号の意味Eタイプ、Pタイプ

E45Pの場合

E：反射面型式、4：ランプ本数、5：ランプの長さ（インチ）、P：ランプの種類

P610CPの場合

P：反射面型式、6：ランプ本数、10：ランプの長さ（インチ）、C：加熱形態、P：ランプの種類

反射面型式

Eは楕円面反射、Pは放物面反射

ランプ種類

Nは低温型ランプ、Pは高温型ランプ

＊2 最大加熱温度は、加熱物の赤外線反射・吸収、熱容量と材質により異なります。

●加熱炉には、冷却水が必要です。予めご了承ください。
●上記以外にも、豊富に取り揃えておりますので、お気軽にお問い合わせください。

原理

赤外線ランプのエネルギー分光分布

1. 放射加熱

赤外線ゴールドイメージ炉は高エネルギー密度の赤外線ランプを熱源とした、放射加熱炉です。可視光から赤外線まで高い反射率を有する金(ゴールド)をコーティングした反射面で高温・高速に加熱できます。

2. 赤外線ランプ

発熱体の赤外線ランプは石英ガラス管にタングステンフィラメントを封じ込んだ棒状ランプです。放射波長はほぼ1.15ミクロンにピークを持つ近赤外線スペクトルです。一般の抵抗炉に比べて、10～15倍エネルギー密度と高い発光温度を有しています。

3. 反射面

精密な曲率加工を施した水冷アルミニウム反射面に、ゴールドをコーティングすることにより反射効率の向上と反射面の劣化の防止を図っています。赤外線ゴールドイメージ炉は反射面の形状から楕円面反射形と放物面反射形の二種類に分けられます。

4. 楕円面反射形　RHL-Eシリーズ

楕円面の焦点に赤外線ランプを配置し、一方の焦点にエネルギーを集光。ランプユニットを管状に組合せることにより、棒状試料の加熱が可能です。

5. 放物面反射形　RHL-Pシリーズ

赤外線エネルギーを並行に反射します。ランプユニットを並列に連ねることにより広い面の均一加熱が可能。また管状に組合せることにより、円筒状の均熱ゾーンを形成できます。

6. 超高熱ゴールドイメージ炉　VHTシリーズ

VHTシリーズは瞬間的により超高温を得るために開発された楕円面反射形の赤外線ゴールドイメージ炉です。超高密度エネルギーの赤外線ランプにより、RHLシリーズに比べ、約2倍の放射エネルギーを実現、パルス状加熱に最も適しています。

E型

最大加熱速度試験

使用炉

E410P

サンプル

W10×L50×T1（mm）

雰囲気

大気中

材質

SUS板

VHT型

超高温炉による最大加熱速度試験

使用炉

VHT-E68

サンプル

φ12×L30（mm）

雰囲気

N₂フロー中

材質

カーボン

P型

最大加熱速度試験

使用炉

P610CP

サンプル

W20×L50×T0.8（mm）

雰囲気

大気中

材質

SUS板

温度分布試験

使用炉

P610CN

サンプル

W50×L100×T4（mm）

雰囲気

N₂フロー中

材質

カーボン

多段ステップ加熱試験

使用炉

P610CN

サンプル

W50×L80×T0.5（mm）

雰囲気

N₂ガス中

材質

SUS板

ガス種による冷却速度

使用炉

P610CP

サンプル

W50×L80×T0.5（mm）

材質

SUS板

流量

10ℓ/分