快速加热の装置一覧
通过红外灯的辐射加热可以实现快速升温，利用金反射表面聚焦红外光，最高可达到1800°C的加热温度。通过调节灯的输出功率，可以实现精确的温度跟踪和控制，并支持在真空、惰性气体、氨气、氢气和臭氧气体环境中加热。
该系统有助于小样本的过程模拟，并能在材料研究和生产过程中减少 研发周期。此外，从能量损耗的角度来看，它还有助于实现碳中和。
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RHL-E/VHT/P系列 红外金面反射炉满足客户的红外加热需求。 红外金面反射炉可被用于多个领域的研发与生产设备 满足客户对快速加热和大范围加热的需求。 RHL-E/VHT/P系列红外金面反射炉，采用……
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Ps,Pss 系列 平板红外金面反射炉广泛应用于碳纳米管生产设备与工业生产设备。 平板红外加热反应炉可用于50-300mm的圆晶退火处理系统和工业生产烘焙线。
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TPC-5000 系列 可编程温控器TPC-5000系列支持高精度的快速升温控制； TPC-5000系列不仅支持红外金面反射炉的快速升温控制，同样支持普通炉体的慢速升温控制； TPC-5000系列……
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RTA 系列 快速热退火炉（2~12Inches）可处理2~12 英寸的样品，10s内即可到设置的退火温度。 该炉体采用水冷壁的结构，结合红外加热的的高能量密度，近红外的波长和快速的升温特点，并通过高精度，快速……
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SSA 系列 简易红外金面退火炉SSA系列是一款经济型红外金面退火炉系统。 该系统搭配了红外金面炉，样品支架以及用于气氛控制的石英腔。
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MIRO 系列 点聚型红外金面反射炉超快速升温，1min内可升温至1800℃ 可用于样品在超高温下的真空热处理。 MIRO是一款紧凑型的点聚焦的红外金面反射炉，可搭配单腔或者双腔，具有极高反射效率……