目的の温度まで昇温させ、試料より脱離してくるガスを四重極型マスフィルタで計測する昇温脱離ガス分析装置です。
用途
- 真空グリース、Ｏ－リングなどの各種真空材料の評価
- 半導体ウェハ、チップの評価
- 合金、セラミックス、固体材料などの微量ガス分析
特長
- 高真空10-5Pa台で質量分析測定が可能
- 高速加熱から低速加熱までの幅広い設定範囲をもち、多段ステップ加熱やサイクル加熱が可能
- 赤外線ランプ加熱により石英製反応管はコールドウォールで、放出ガスがほとんどありません
- パソコン（オプション）のRS-232Cを使用し、データ収集が簡単に行えます
仕様
| 温度範囲 | RT ～ 1000℃ |
|---|---|
| 試料寸法 | 角20mm×厚2mm |
| 雰囲気 | 真空中 |
| 加熱方式 | 放物面反射赤外線管状加熱方式 |
| 温度センサ | 熱電対（JIS "K"） |
| 到達真空度 | 10-5 Pa台（ベーキング8時間後） |
| 測定質量数範囲 | 1 ～ 200amu |
| 保安項目 | 冷却水量・漏電（ELB） |
| 感度 | 4A/Pa |
| 分解能 | M/△M＝1M（10％ P.H.） |
