赤外線ゴールドイメージ炉、ゼーベック係数測定装置(ZEM)など、アドバンス理工は多彩な熱技術をベースに未踏の分野に挑戦します。
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アークプラズマ法ナノ粒子形成装置 APDシリーズ

パルス真空アーク放電を利用した新しいナノ粒子形成装置です。
パルス真空アーク蒸着は、シンプルなプロセスで金属イオンを生成し、極薄膜やナノ粒子を形成する唯一の手法です。
微粒子の形成など他の蒸着法では得られない効果を得ることが出来ます。

用途

  • APD-P(粉末へのナノ粒子担持用)
    ナノ粒子を利用した燃料電池触媒 排ガス触媒 光触媒
    VOC分散触媒 カーボンナノチューブ触媒 プラズモン
  • APD-S(基板成膜用)
    金属薄膜(磁性 プラズモン 保護膜)

特長

  • コンデンサの容量を変えることでナノ粒子の粒径を約1.5nm~6nmまで自在に選択することが出来ます。
  • 導電性材料(ターゲット)であれば、どのような材料もプラズマ化できます。
    *ターゲットの比抵抗0.01Ωcm以下

仕様

型式APD-P(粉末担持モデル)APD-S(基板蒸着モデル)
温度範囲RT *1RT~500℃
試料寸法粉 体
試料容器寸法(内寸):φ 95 mm × H 30 mm  攪拌機構付  
充填量:13 ~ 20 cc
基 板
φ 2 inch
蒸着雰囲気真空中、低圧プロセスガス中 (N2、H2、Ar、O2)
標準蒸着源数1 *2

*1:オプションで500℃までの蒸着も可能
*2:蒸着源数は、お客様のニーズにより、カスタマイズ可能

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