赤外線ゴールドイメージ炉、ゼーベック係数測定装置(ZEM)など、アドバンス理工は多彩な熱技術をベースに未踏の分野に挑戦します。
製品案内

アークプラズマ蒸着源 APS-1

本製品は、真空アーク蒸着によるシンプルなプロセスで金属イオンを生成し、成膜にも応用できる唯一の成膜手法です。
ナノ粒子や平坦性など、他の蒸着法で得られない効果が得られます。

用途

  1. 燃料電池など電極材活性化ナノ粒子の担持
  2. 各種触媒のナノ粒子材料探査
  3. DLC、UNCD(超微結晶ダイヤ)膜の生成
  4. 熱電材料ターゲットを用いた薄膜熱電素子の製作
  5. 複数の蒸着源による化合物の生成
  6. 酸化物、窒化物ナノ粒子の生成(O2、N2 ガス中)

特長

  1. 導電性材料のナノ粒子形成、触媒作成が可能
  2. ナノ粒子の粒径を約 1.5 nm ~ 6 nm まで選択可能
  3. 雰囲気を可変することで酸化物や窒化物を容易に生成可能
  4. 湿式と比較して高活性な触媒効果
  5. ICF070(VG50)相当のフランジがあれば方向を選ばず取り付け可能

仕様

成膜速度 0.01 ㎚/s ~ 0.3 ㎚/s
ターゲット~基板距離:80 ㎜時
膜厚分布 <±10% φ20㎜ エリア内
ターゲット~基板距離:80 ㎜時
※Feの場合
成膜可能材料 導電性材料全般
(比抵抗が 0.01 Ω㎝ 以下の材料)
ターゲットサイズ φ 10 ㎜ × L 17 ㎜
ターゲット寿命 約 3万 pulse(※ターゲット材料に依存)
電源 単相 AC 200 V ±10 % 2 kVA
寸法 コンデンサBOX W 110 × D 320 × H 200(㎜)
真空部 φ 34 × L 200(㎜)
電源 W 200 × D 360 × H 200(㎜)
コントローラ W 240 × D 400 × H 200(㎜)

参考画像

  • カーボン粉体にPtナノ粒子を担持したTEM画像

    カーボンの凸凹な表面に対し均一に蒸着されている。

  • 凝集ナノ粒子

    ショット数の増加により凝集が始まる。

  • 薄膜(連続的な格子像)

    ナノ粒子が積層し、ナノ薄膜が形成される。

増設例

例1:真空チャンバへ増設

例2:弊社装置 APD-1Pへ増設

表1 ターゲット使用実績表

1A 2A 3A 4A 5A 6A 7A 8 1B 2B 3B 4B 5B 6B 7B 0
1 H He
2 Li Be B C N O F Ne
3 Na Mg Al Si P S Cl Ar
4 K Ca Sc Ti V Cr Mn Fe Co Ni Cu Zn Ga Ge As Se Br Kr
5 Rb Sr Y Zr Nb Mo Tc Ru Rh Pd Ag Cd In Sn Sb Te I Xe
6 Cs Ba Lanthanoid Hf Ta W Re Os Ir Pt Au Hg TI Pb Bi Po At Rn
7 Fr Ra Actinoid

  実績あり   使用条件に制限あり

お気軽にお問い合わせください。

製品を探す

Search

アドバンス理工株式会社 Copyright © ADVANCE RIKO, Inc. All Rights Reserved.