赤外線ゴールドイメージ炉、ゼーベック係数測定装置(ZEM)など、アドバンス理工は多彩な熱技術をベースに未踏の分野に挑戦します。
製品案内

アークプラズマ蒸着源 APS-1

本製品は、真空アーク蒸着によるシンプルなプロセスで金属イオンを生成し、成膜にも応用できる唯一の成膜手法です。
ナノ粒子や平坦性など、他の蒸着法で得られない効果が得られます。

用途

  1. 燃料電池など電極材活性化ナノ粒子の担持
  2. 各種触媒のナノ粒子材料探査
  3. DLC、UNCD(超微結晶ダイヤ)膜の生成
  4. 熱電材料ターゲットを用いた薄膜熱電素子の製作
  5. 複数の蒸着源による化合物の生成
  6. 酸化物、窒化物ナノ粒子の生成(O2、N2 ガス中)

特長

  1. 導電性材料のナノ粒子形成、触媒作成が可能
  2. ナノ粒子の粒径を約 1.5 nm ~ 6 nm まで選択可能
  3. 雰囲気を可変することで酸化物や窒化物を容易に生成可能
  4. 湿式と比較して高活性な触媒効果
  5. ICF070(VG50)相当のフランジがあれば方向を選ばず取り付け可能

仕様

成膜速度

0.01 ㎚/s ~ 0.3 ㎚/s
ターゲット~基板距離:80 ㎜時

膜厚分布<±10% φ20㎜ エリア内
ターゲット~基板距離:80 ㎜時
※Feの場合 
成膜可能材料導電性材料全般
(比抵抗が 0.01 Ω㎝ 以下の材料) 
ターゲットサイズφ 10 ㎜ × L 17 ㎜ 
ターゲット寿命約 3万 pulse(※ターゲット材料に依存) 
電源単相 AC 200 V ±10 % 2 kVA 
寸法   コンデンサBOXW 110 × D 320 × H 200(㎜)
真空部φ 34 × L 200(㎜)
電源W 200 × D 360 × H 200(㎜)
コントローラW 240 × D 400 × H 200(㎜)

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