空冷卓上型ランプ加熱装置 MILA-700AR

冷却水を使わない卓上型ランプ加熱装置。
冷却は空冷ファン採用なので、壁コンセント(AC100V)さえ有れば直ちに加熱が出来ます。

用途

  • Si ウエハ、化合物ウエハの高速加熱
  • 光CVDの基板加熱などエレクトロニクス材料の高速加熱
  • ガラス基板、セラミックス、複合材料などの熱処理
  • 熱サイクル試験
  • 金属材料の焼鈍
  • コーティング膜の耐熱評価
  • 有機材料、樹脂類の加熱、乾燥

特長

  • 冷却水は不要で、空冷ファンによる空冷方式を採用
  • 壁コンセント(AC100V 15A)で使用可能
  • 加熱炉と加熱チャンバ、温度制御器が一体化した卓上型
  • 赤外線ゴールドイメージ炉のクリーンな高速加熱と高速冷却
  • 温度レシピはパソコンで簡単入力
  • 加熱中の温度データをパソコン画面に表示可能
  • デジタル流量計を標準装備し、N2ガス、Arガス、乾燥空気の選択が可能

仕様

温度範囲 RT~700℃(最高800℃)
最高昇温速度 25℃/s
※RT~700℃の範囲でノンコントロールフルパワー加熱時の平均加熱速度
ガ温度分布 ΔT=10℃ at 700℃保持中
加熱雰囲気 大気中、真空中、不活性ガス中
試料寸法 W20㎜×L20㎜×t2.0㎜ MAX
温度制御センサ JIS熱電対 K
ランプ定格 赤外線ランプ 100V 375W 4本使用

ユーティリティ

電源 AC100V 15A アース付コンセント
ガス導入口 1/4〞Swagelok継手
ガス排気口 1/4〞Swagelok継手
真空引口 NW25-KF
外形寸法 約W360㎜×D300㎜×H310㎜(突起物は除く)
重量 21Kg

温度分布

試料(寸法):Ni板(W20㎜×L20㎜×t0.5㎜)
雰囲気:ガスフロー中(N2:1L/min)
制御:TC2

制御ソフト画面

※プログラム入力サポートソフト(対応OS-Windows7、USB接続ケーブル付)は標準付属品です。
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