赤外線ゴールドイメージ炉、ゼーベック係数測定装置(ZEM)など、アドバンス理工は多彩な熱技術をベースに未踏の分野に挑戦します。
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空冷卓上型ランプ加熱装置 MILA-700AR

冷却水を使わない卓上型ランプ加熱装置。
冷却は空冷ファン採用なので壁コンセントさえあれば直ちに加熱が出来ます。

用途

  • Si ウエハ、化合物ウエハの高速加熱
  • 光CVDの基板加熱などエレクトロニクス材料の高速加熱
  • ガラス基板、セラミックス、複合材料などの熱処理
  • 熱サイクル試験
  • 金属材料の焼鈍
  • コーティング膜の耐熱評価
  • 有機材料、樹脂類の加熱、乾燥

特長

  1. 冷却水は不要で、空冷ファンによる空冷方式を採用
  2. 壁コンセント(AC100V 15A)で使用可能
  3. 加熱炉と加熱チャンバ、温度制御器が一体化した卓上型
  4. 赤外線ゴールドイメージ炉のクリーンな高速加熱と高速冷却
  5. 温度レシピはパソコンで簡単入力
  6. 加熱中の温度データをパソコン画面に表示可能
  7. デジタル流量計を標準装備し、N2ガス、Arガス、乾燥空気の選択が可能

仕様

型式 MILA-700AR
温度範囲 RT〜700℃(最高800℃)
最高昇温速度 25℃/s
※RT~700℃の範囲でノンコントロールフルパワー加熱時の平均加熱速度
温度分布 ΔT=10℃ at 700℃保持中
加熱雰囲気 大気中、真空中、不活性ガス中
試料寸法 W20㎜×L20㎜×t2.0㎜ MAX.
温度制御センサ JIS熱電対 K
ランプ定格 赤外線ランプ 100V 375W 4本使用
電源 AC100V 15A アース付コンセント
ガス導入口 1/4〞Swagelok継手
ガス排気口 1/4〞Swagelok継手
真空引口 NW25-KF
外形寸法 約W360㎜×D300㎜×H310㎜(突起物は除く)
重量 21Kg

温度分布

試料(寸法)
:Ni板(W20㎜×L20㎜×t0.5㎜)
雰囲気
:ガスフロー中(N2:1L/min)
制御
:TC2

制御ソフト画面

※プログラム入力サポートソフト(対応OS-Windows7、USB接続ケーブル付)は標準付属品です。

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