赤外線ゴールドイメージ炉 Ps,Pssシリーズ

カーボンナノチューブの生成装置や生産装置まで幅広い分野でご利用可能。
平板面状放射型赤外線加熱炉はφ2in~φ300mmまでのウエハ用アニールシステムや生産用焼成炉などにご利用頂けます。

用途

  • 大型ガラス基板(太陽電池、FPD等)の加熱
  • 半導体ウエハの高温高速加熱
  • 薄板鋼板の熱処理

特長

  • Ps型は幅40mmの反射面を有し、Pss型は、幅20mmの反射面で高密度ランプ配置が可能
  • Ps型、Pss型ともに、反射面の数を増やすことで、幅広い面積を加熱することが可能

仕様

型式*1 加熱形態 ランプ数 加熱長(発光長) ランプ電圧 電力
Ps15V 平面放射加熱 1本 140mm 200V 1.2kW
Ps110V 265mm 2.0kW
Ps116V 420mm 300V 3.0kW
Ps35V 3本 140mm 200V 3.6kW
Ps310V 265mm 6.0kW
Ps316V 420mm 300V 9.0kW
Pss35V 140mm 200V 3.6kW
Pss38V 200mm 4.8kW
Pss310V 265mm 6.0kW
Pss316V 420mm 300V 9.0kW
*1 型式番号の意味 Ps(s)タイプ
Ps(s)310Vの場合
P:放物面反射、s(s):反射面の幅(s:40㎜幅、ss:20㎜幅)、3:ランプ本数、10:ランプ長さ(インチ)、V:平面加熱

●加熱炉には、冷却水が必要です。予めご了承ください。
●加熱温度は、加熱物の赤外線反射・吸収、熱容量と材質により異なります。
●上記以外にも、豊富に取り揃えておりますので、お気軽にお問い合わせください。

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