赤外線ゴールドイメージ炉、ゼーベック係数測定装置(ZEM)など、アドバンス理工は多彩な熱技術をベースに未踏の分野に挑戦します。
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赤外線ランプアニール装置 RTAシリーズ

2inから300mmまでの高速熱処理。保持まで10秒。
高速加熱技術を結集し、研究開発から生産用までお客様のニーズにお応えした装置を製造・販売いたします。最大温度1450℃の高温雰囲気下での加熱も対応いたします。

用途

  • LED基板アニール
  • 活性化アニール
  • SiCウェハーのアニール
  • パワーデバイスのアニール
  • シリサイド形成・サリサイド形成
  • 酸化雰囲気対応可能

特長

  • 高速熱処理が可能
  • コールドウォール構造の為、重金属汚染がありません
  • CtoCロボット搬送システム対応可能
  • 製造工程装置との組み合わせ・連結が可能

仕様

型式 RTA-2000 RTA-4000 RTA-6000 RTA-8000 RTA-12000
温度範囲 室温~1000℃(温度範囲もカスタム可能)
試料寸法 2in 4in 6in 8in 300mm
測定雰囲気 各種雰囲気下で対応可能
アプリケーション CtoC対応
前後工程装置との連結
カスタマイズ可能

お気軽にお問い合わせください。

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