バルク材料から20nmの薄膜まで多種多様なニーズにあわせた熱伝導率測定を行えます。試料ごと、測定方向ごとに精密な測定を行うことが出来ます。
適合装置 早見表
測定温度
測定温度
レーザフラッシュ法
試料の表面をレーザ光によってパルス状に加熱したときの試料裏面の温度応答から熱拡散率を測定します。
熱伝導率
| 測定温度範囲 | 測定雰囲気 | 試料形状、寸法 |
|---|---|---|
| 室温 | 大気中 真空中 不活性ガス中 |
φ10㎜または角7㎜ 厚さ1～3㎜ ※厚さに関しては要相談 |
| 50℃～1000℃ | 真空中 不活性ガス中 |
熱拡散率
| 測定温度範囲 | 測定雰囲気 | 試料形状、寸法 |
|---|---|---|
| 室温 | 大気中 真空中 不活性ガス中 |
φ10㎜または角7㎜ 厚さ1～3㎜ ※厚さに関しては要相談 |
| 50℃～1200℃ | 真空中 不活性ガス中 |
|
| ー | ー | 粉体試料 |
二次元法（熱拡散率）
| 測定温度範囲 | 測定雰囲気 | 試料形状、寸法 |
|---|---|---|
| 室温 | 大気中 | 角25～30㎜ 長さ0.1～1㎜ ※厚さに関しては要相談 |
多層解析（熱拡散率）
| 測定温度範囲 | 測定雰囲気 | 試料形状、寸法 |
|---|---|---|
| ー | ー | 2層または3層 |
測定装置：レーザフラッシュ法熱定数測定装置 TC-1200RH
Xeフラッシュ法
試料の表面をキセノン光によってパルス状に加熱したときの試料裏面の温度応答から熱拡散率を測定します。
熱拡散率
| 測定温度範囲 | 測定雰囲気 | 試料形状、寸法 |
|---|---|---|
| 室温 | 大気中 不活性ガス中 |
φ10、20㎜、角10㎜ 厚さ0.5～1.5㎜ ※形状に関しては要相談 |
| 50℃～300℃ | 不活性ガス中 |
多層解析（熱拡散率）
| 測定温度範囲 | 測定雰囲気 | 試料形状、寸法 |
|---|---|---|
| ー | ー | 2層または3層 |
測定装置：キセノンフラッシュ法熱拡散率測定装置 TD-1シリーズ
光交流法
スキャニング・レーザ加熱AC法 帯状レーザ光を生成し、薄板試料の表面に周期的の照射して試料の面内方向の熱拡散率を測定します。
熱拡散率（面内方向）
| 測定温度範囲 | 測定雰囲気 | 試料形状、寸法 |
|---|---|---|
| 室温 | 真空中 大気中 |
自立した薄板 幅2.5〜4㎜×長さ30㎜ 厚さ50～300μm （厚さに関しては要相談） |
| 大気中 | 自立した薄板 幅2.5〜4㎜×長さ30㎜ 厚さ10～50μm |
熱伝導率の算出結果（比熱および密度既知）
| 測定温度範囲 | 測定雰囲気 | 試料形状、寸法 |
|---|---|---|
| 室温 | 真空中 | 自立しない薄膜 厚さ100～1000nm ※ガラス基板を支給 |
周期加熱法
試料を周期加熱し、試料の温度を測定することにより試料の中で周期的に温度変化が生じたときの温度の振舞いより熱拡散率を算出します。
熱拡散率（厚さ方向）
| 測定温度範囲 | 測定雰囲気 | 試料形状、寸法 |
|---|---|---|
| 室温 | 大気中 | 幅10㎜×長さ10㎜以上 厚さ10～300μm ※形状、厚さに関しては要相談 |
定常法
熱伝導率を測定する方法です。試料の片側を高温にもう片側を低温にし、試料に定常的な温度勾配を与え、温度測定を実施することで熱伝導率を算出します。
熱伝導率
| 測定温度範囲 | 測定雰囲気 | 試料形状、寸法 |
|---|---|---|
| 50℃〜280℃ | 大気中 | 自立した薄板 角25㎜ 厚さ2～8㎜ |
| 50℃〜200℃ | フィルム状 角25㎜ 厚さ100～1000μm |
測定装置：定常法熱伝導率測定装置 GH-1シリーズ
2ω法
サーモリフレクタンス法を用いた温度振幅検出により、基板上の絶縁薄膜の厚さ方向の熱伝導率を計測します。
熱伝導率
| 測定温度範囲 | 測定雰囲気 | 試料形状、寸法 |
|---|---|---|
| 26℃ | 真空中 | 幅10㎜×長さ20㎜ 膜厚20～1000nm 基板厚0.5～1㎜ ※材質、厚さに関しては要相談 |
測定装置：2ω法ナノ薄膜熱伝導率計 TCN-2ω
