受託分析

熱処理の受託分析

種材料のアニール、ガスクェンチなど急速/低速加熱処理を雰囲気可変下で行えます。

熱処理

熱処理

測定温度範囲 測定雰囲気 試料形状、寸法
室温〜1100℃ 大気中
不活性ガス中
※その他のガスは要相談
幅50㎜×長さ100㎜
厚さ1〜10㎜
※形状に関しては要相談

測定装置:赤外線ランプ加熱装置 QHC-P610CP

熱処理(高真空)

測定温度範囲 測定雰囲気 試料形状、寸法
室温〜1100℃ 真空中 最大 角20㎜×厚2㎜

測定装置:卓上型ランプ加熱装置 MILA-5000シリーズ

熱処理

測定温度範囲 測定雰囲気 試料形状、寸法
室温〜1200℃ 大気中
不活性ガス中
※その他のガスは要相談
最大 角50㎜×厚5㎜

測定装置:卓上型ランプ加熱装置 MILA-5050

熱処理

測定温度範囲 測定雰囲気 試料形状、寸法
室温〜1800℃ 大気中
不活性ガス中
※その他のガスは要相談
角15㎜×厚さ1㎜

測定装置:超高温ランプアニール装置 HT-RTA59HD

熱処理

測定温度範囲 測定雰囲気 試料形状、寸法
室温〜1000℃ 大気中
不活性ガス中
※その他のガスは要相談
最大6インチウエハ

測定装置:赤外線ランプ加熱装置 RTP-6

熱衝撃

測定温度範囲 測定雰囲気 試料形状、寸法
室温〜1800℃ 大気中
不活性ガス中
※その他のガスは要相談
Φ12mm×長さ13mm

測定装置:赤外線ランプクエンチ装置 CAS-MR59AQ