雰囲気可変型ランプ加熱装置 QHCシリーズ/VHCシリーズ

太陽電池/化合物半導体等のプロセス開発や様々なアプリケーションとセットアップが可能。
QHC・VHCシリーズは赤外線ゴールドイメージ炉と温度コントローラを組合せ、さらに石英の熱処理チャンバをコンパクトに装備した高速加熱・冷却装置です。
お客様のニーズに合わせたカスタマイズが可能です。

用途

  • 太陽電池基板の熱処理
  • 水素雰囲気下での熱処理
  • 各種材料の基礎研究用雰囲気アニール・熱処理シミュレータ
  • ガスクェンチ熱処理
  • 熱サイクル・熱衝撃試験
  • 半導体材料の焼成、プロセスアニール条件の検討

特長

  • 高速加熱から低速加熱まで幅広い条件設定
  • 多段ステップおよびサイクル加熱
  • ガス冷却機構による高速ガスクエンチ
  • お手持ちのパソコンから温度プログラム設定や外部信号の入力が簡単に実行可能
  • また、加熱中の温度データをパソコン上に表示する事が可能

仕様

型式 QHC、VHC-E410 QHC、VHC-P610C QHC、VHC-P616C
加熱方式 赤外線楕円面反射集光式 赤外線放物面反射集光式
温度範囲 RT ~ 1400℃ RT ~ 1200℃
熱処理ゾーン φ15mm×長100mm φ50mm×長100mm φ50mm×長150mm
均熱ゾーン(加熱時) φ10mm×長80mm φ40mm×長80mm φ40mm×長120mm
冷却方式 チャンバ内石英ノズルよりガス吹付方式

※1 温度範囲は試料の熱容量・赤外線の反射・吸収によって異なります。
※2 加熱炉やオプションを変更追加することは可能です。お気軽にご相談下さい。

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