簡易型赤外線ランプ加熱装置 SSAシリーズ

赤外線ゴールドイメージ炉と石英チャンバの簡易型装置。
赤外線ゴールドイメージ炉及び試料ホルダを含んだ石英チャンバから構成される低価格の加熱システムです。

用途

  • 化合物半導体のアロイング
  • Si、化合物半導体のRTA
  • セラミック基板上の積層材の焼成炉
  • ガラス・セラミック基板のアニール炉

特長

  • 石英チャンバは、ガスフロータイプまたは真空タイプを選択可能(標準は、ガスフロータイプ)
  • オプションで、ガスフロータイプと真空タイプを両方兼ねることが可能
  • お手持ちのパソコンから温度プログラム設定や外部信号の入力が簡単に実行可能
  • また、加熱中の温度データをパソコン上に表示する事が可能

仕様

型式 SSA-E45 SSA-E410 SSA-P610C
加熱方式 赤外線楕円面反射集光式 赤外線楕円面反射集光式 赤外線放物面反射集光式
温度範囲 RT ~ 1400℃ RT ~ 1200℃
熱処理ゾーン φ15mm×長50mm φ15mm×長100mm φ50mm×長100mm
均熱ゾーン
(加熱時)
φ10mm×長40mm φ10mm×長80mm φ40mm×長80mm
熱処理チャンバ 石英製 φ30(ガスフロー型) 石英製 φ98(ガスフロー型)
石英試料ホルダ 石英製(ポートタイプ) 石英製(2インチ板状タイプ)
熱電対 JIS "R" 1対
プログラム温度制御器 TPC5000-32-1 TPC5000-62-1

※ 温度範囲は試料の熱容量・赤外線の反射・吸収によって異なります。

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