赤外線ゴールドイメージ炉、ゼーベック係数測定装置(ZEM)など、アドバンス理工は多彩な熱技術をベースに未踏の分野に挑戦します。
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卓上型ランプ加熱装置 MILA-5050

本装置は、試料寸法50mm 角までの熱処理を可能とした卓上型ランプ加熱装置です。
試料寸法20mm 角までの加熱装置として、卓上型ランプ加熱装置MILA-5000 シリーズを発売以来、多くのお客様にご愛用いただいておりますが、「もう少し大きい試料の熱処理がしたい」というお客様のご要望にお応えし、加熱炉、チャンバ、温度制御器を一体にしたコンパクトなボディはそのままに、50mm 角までの熱処理を可能といたしました。

用途

  1. Si ウエハ、化合物ウエハの高速加熱
  2. 光CVD の基板加熱などのエレクトロニクス材料の高速加熱
  3. ガラス基板、セラミックス、複合材料などの熱処理
  4. 熱サイクル試験
  5. 金属材料の焼鈍
  6. コーティング膜の耐熱評価
  7. 有機材料、樹脂類の加熱、乾燥

特長

  1. 最大W 50mm × L 50mm サイズまでの試料の熱処理が可能
  2. 最高使用温度は1200℃
  3. 加熱炉、チャンバ、温度制御器を一体化した卓上型
  4. Cold Wall 構造による急速加熱/ 冷却とクリーン加熱が可能
  5. 温度レシピはUSB 接続したパソコンで簡単入力
  6. 加熱中の温度データをパソコン画面に表示可能(テキストファイルとして保存も可能)

仕様

温度範囲 室温~ 1200℃
試料寸法 角50 または φ50 × t5 (mm)
加熱雰囲気 真空中、各種ガスフロー中
加熱速度 50℃/s
電源 AC 200V 5kW
冷却水 市水 流量 6L/min
圧力 0.3MPa 以上
装置寸法 W 450 × D 492 × H 219 (mm)
重量 約24kg
温度分布 1% 以内(1000℃時)

測定データ

  • ① 500℃,Δt = 3.2℃
  • ② 800℃,Δt = 0.6℃
  • ③ 1000℃,Δt = 4.2℃
  • ④ 1200℃,Δt = 2.6℃

試料系(2インチ試料測定時)

※2インチ用SiC コートカーボンサセプタおよび透明石英試料ホルダは、オプション品です。

オプション

  • SiC コートカーボンサセプタ
  • 真空排気系(RP, DRY, TMP など)
  • ガスフローユニット(浮子式流量計)
  • 冷却水フロースイッチ
  • 逆止弁(リリーフバルブ)
  • 電源ケーブル, 冷却水ホース
  • 冷却水循環装置
  • ハンディースポットウェルダ(HS-9000)
  • ハンディーアークウェルダ(HA-1H)

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