赤外線ゴールドイメージ炉、ゼーベック係数測定装置(ZEM)など、アドバンス理工は多彩な熱技術をベースに未踏の分野に挑戦します。
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卓上型ランプ加熱装置 MILA-5050

 本装置は、試料寸法50mm 角までの熱処理を可能とした卓上型ランプ加熱装置です。
試料寸法20mm 角までの加熱装置として、卓上型ランプ加熱装置MILA-5000 シリーズを発売以来、多くのお客様にご愛用いただいておりますが、「もう少し大きい試料の熱処理がしたい」というお客様のご要望にお応えし、加熱炉、チャンバ、温度制御器を一体にしたコンパクトなボディはそのままに、50mm 角までの熱処理を可能といたしました。

用途

  1. Si ウエハ、化合物ウエハの高速加熱
  2. 光CVD の基板加熱などのエレクトロニクス材料の高速加熱
  3. ガラス基板、セラミックス、複合材料などの熱処理
  4. 熱サイクル試験
  5. 金属材料の焼鈍
  6. コーティング膜の耐熱評価
  7. 有機材料、樹脂類の加熱、乾燥 

特長

  1. 最大W 50mm × L 50mm サイズまでの試料の熱処理が可能
  2. 最高使用温度は1200℃
  3. 加熱炉、チャンバ、温度制御器を一体化した卓上型
  4. Cold Wall 構造による急速加熱/ 冷却とクリーン加熱が可能
  5. 温度レシピはUSB 接続したパソコンで簡単入力
  6. 加熱中の温度データをパソコン画面に表示可能(テキストファイルとして保存も可能)

仕様

 温度範囲 室温~ 1200℃
 試料寸法 角50 または φ50 × t5 (mm)
 加熱雰囲気 真空中、各種ガスフロー中
 加熱速度 50℃/s
 温度分布 1% 以内(1000℃時)

お気軽にお問い合わせください。

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