半导体の装置一覧
红外加热炉既可以进行清洁、快速的加热和冷却，又可以进行精确的温度控制。
此外，还可以在特殊气氛下处理样品，例如惰性气体、NH3 和氢气等。我们可提供满足不同尺寸样品的设备，以及可通过机器人传送进行自动热处理设备。
我们可以涵盖从基础研究到量产，以及质量检查的一系列设备。
此外，我们还可以为 SiC・GaN 和下一代半导体的金刚石半导体的高速加热/冷却、离子注入后的扩散退火、电极电阻降低以及氧化物/氮化物形成的退火提供合适的系统。
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扫描热探针微图像 STPM-1000一种热敏探头的Seebeck系数和热导率的2维分布测量装置。 该装置是一种能够同时评估塞贝克系数和热导率的分布测量装置。通过同时评估，可以简单地评估热电特性。此……
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RTA 系列 快速热退火炉（2~12Inches）可处理2~12 英寸的样品，10s内即可到设置的退火温度。 该炉体采用水冷壁的结构，结合红外加热的的高能量密度，近红外的波长和快速的升温特点，并通过高精度，快速……
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SSA 系列 简易红外金面退火炉SSA系列是一款经济型红外金面退火炉系统。 该系统搭配了红外金面炉，样品支架以及用于气氛控制的石英腔。
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MIRO 系列 点聚型红外金面反射炉超快速升温，1min内可升温至1800℃ 可用于样品在超高温下的真空热处理。 MIRO是一款紧凑型的点聚焦的红外金面反射炉，可搭配单腔或者双腔，具有极高反射效率……
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HT-RTA59HD 超高温快速退火系统10s内可将样品加热到1800℃ HT-RTA59HD是一款桌面型的超高温点聚型快速退火炉，可在10s内将样品的温度升至1800℃。