熱処理の分析装置一覧
赤外線ランプ加熱炉を搭載し､クリーンかつ急速加熱・冷却に加えて緻密な温度制御が可能でガス雰囲気も任意に調整可能。試料は、金属・セラミックス・カーボン材のバルク材、ウェハ・粉末など。各種雰囲気可変下で受託試験が可能です。試料寸法は、小片から8インチウェハまで対応可能です｡
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卓上型ランプ加熱装置 MILA-5050本装置は、試料寸法50mm 角までの熱処理を可能とした卓上型ランプ加熱装置です。 試料寸法20mm 角までの加熱装置として、卓上型ランプ加熱装置MILA-500……
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雰囲気可変型ランプ加熱装置 QHCシリーズ／VHCシリーズ太陽電池/化合物半導体等のプロセス開発や様々なアプリケーションとセットアップが可能。 QHC・VHCシリーズは赤外線ゴールドイメージ炉と温度コントローラを組合せ……
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スポット集光型赤外線ゴールドイメージ炉 MIROシリーズスポット集光で超高温熱処理。 回転楕円反射面をもち、シングル又はダブルタイプのチャンバと組合せることにより、極めて高い反射効率を実現したコンパクトなスポット集光……
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赤外線ランプクエンチ装置 CAS-MR59AQ材料の加熱後に試料を落下させ、水クエンチ不活性ガス雰囲気中で最高1800 ℃まで加熱可能
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超高温ランプアニール装置 HT-RTA59HD小片試料を1800℃まで10秒で昇温 SiCなど高価な試料やその他高融点材料の小片試料をスポット加熱による高い反射効率で、超高温領域1800℃まで昇温可能な卓上……