半導体の装置一覧
赤外線ランプ加熱炉を搭載し､クリーンかつ急速加熱・冷却に加えて緻密な温度制御
が可能です。また、チャンバー内で、不活性ガスやアンモニア・水素中などの異種ガス対応も可能であり、小片サイズ～大口径､ロボット搬送による自動熱処理まで様々なニーズにマッチしたラインナップを提案できます。
基礎研究から量産化､品質検査までの一連の流れをカバーしております｡
SiC・GaNや次世代半導体のダイヤモンド半導体の高速加熱冷却や､イオン注入後の拡散アニール、電極の低抵抗化、酸化膜/窒化膜の生成アニールなどに最適です｡
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赤外線ランプ加熱装置 RTP-mini本装置は、既存の赤外線加熱装置 RTP-6 をコンパクトな卓上型にした装置です。 従来の熱排気ユニットを削除し、冷却ファンを採用した事で、効率良い冷却と騒音低減……
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走査型サーマルプローブマイクロイメージ STPM-1000サーマルプローブによるゼーベック係数と熱伝導率の2次元分布測定装置。 本装置は、ゼーベック係数と熱伝導率を同時に評価出来る分布測定装置です。 同時評価により熱電……
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赤外線ランプアニール装置 RTAシリーズ目標温度まで10秒！ 弊社の赤外線ランプ加熱は、高エネルギー密度、近赤外線、高熱応答性、温度制御性、真空によるクリーン加熱に自信があります。２インチ(50mm)……
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空冷卓上型ランプ加熱装置 MILA-700AR冷却水を使わない卓上型ランプ加熱装置。 冷却は空冷ファン採用なので、壁コンセント（AC100V）さえ有れば直ちに加熱が出来ます。
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簡易型赤外線ランプ加熱装置 SSAシリーズ赤外線ゴールドイメージ炉と石英チャンバの簡易型装置。 赤外線ゴールドイメージ炉及び試料ホルダを含んだ石英チャンバから構成される低価格の加熱システムです。
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雰囲気可変型ランプ加熱装置 QHCシリーズ／VHCシリーズ太陽電池/化合物半導体等のプロセス開発や様々なアプリケーションとセットアップが可能。 QHC・VHCシリーズは赤外線ゴールドイメージ炉と温度コントローラを組合せ……
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スポット集光型赤外線ゴールドイメージ炉 MIROシリーズスポット集光で超高温熱処理。 回転楕円反射面をもち、シングル又はダブルタイプのチャンバと組合せることにより、極めて高い反射効率を実現したコンパクトなスポット集光……