急速加熱の装置一覧
赤外線ランプの光による輻射加熱で急速加熱が可能、また反射面で赤外線を集光させる事で、最高温度1800℃の加熱を実現できます。
ランプの出力調整による精密な温度追従性や温度制御、真空中、不活性ガスやアンモニア・水素中、オゾンガス中の加熱が可能です。
小片試料でのプロセスシミュレーション、材料研究・生産工程のタクトタイム短縮に貢献できます。エネルギーロスの観点からカーボンニュートラルに貢献しています。
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赤外線ランプ加熱装置 RTP-mini本装置は、既存の赤外線加熱装置 RTP-6 をコンパクトな卓上型にした装置です。 従来の熱排気ユニットを削除し、冷却ファンを採用した事で、効率良い冷却と騒音低減……
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赤外線ゴールドイメージ炉 RHL-E／VHT／Pシリーズ赤外線ランプ加熱でお客様のニーズにお応えします。 大小様々な対象物の加熱で研究開発や生産装置、さまざまな分野でご利用いただいてます。
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赤外線ゴールドイメージ炉 Ps／Pssシリーズ平板面状放射型赤外線加熱炉はφ2in～φ300mmまでのウエハ用アニールシステムや生産用焼成炉などにご利用頂けます。 カーボンナノチューブの生成装置や生産装置ま……
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プログラム温度コントローラー TPC-5000シリーズ高速加熱に精度よく対応可能な温調器。 高速昇温時の早いレスポンスが要求される赤外線ゴールドイメージ炉はもとより低速昇温炉用にも対応できるプログラム温度制御器です……
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赤外線ランプアニール装置 RTAシリーズ目標温度まで10秒！ 弊社の赤外線ランプ加熱は、高エネルギー密度、近赤外線、高熱応答性、温度制御性、真空によるクリーン加熱に自信があります。２インチ(50mm)……
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空冷卓上型ランプ加熱装置 MILA-700AR冷却水を使わない卓上型ランプ加熱装置。 冷却は空冷ファン採用なので、壁コンセント（AC100V）さえ有れば直ちに加熱が出来ます。
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簡易型赤外線ランプ加熱装置 SSAシリーズ赤外線ゴールドイメージ炉と石英チャンバの簡易型装置。 赤外線ゴールドイメージ炉及び試料ホルダを含んだ石英チャンバから構成される低価格の加熱システムです。
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雰囲気可変型ランプ加熱装置 QHCシリーズ／VHCシリーズ太陽電池/化合物半導体等のプロセス開発や様々なアプリケーションとセットアップが可能。 QHC・VHCシリーズは赤外線ゴールドイメージ炉と温度コントローラを組合せ……