熱処理試験
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赤外線ランプ加熱装置 RTP-mini
本装置は、既存の赤外線加熱装置 RTP-6 をコンパクトな卓上型にした装置です。従来の熱排気ユニットを削除し、冷却ファンを採…
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赤外線ランプ加熱装置 RTP-6
低コストで80℃/sの高速アニールが可能。本装置は、放物面反射赤外線ランプにより、4-6インチサイズのウエハを均一に加熱する…
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卓上型ランプ加熱装置 MILA-5050
本装置は、試料寸法50mm 角までの熱処理を可能とした卓上型ランプ加熱装置です。 試料寸法20mm 角までの加熱装置として、卓上…
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卓上型ランプ加熱装置 MILA-5000シリーズ
MILA-5000シリーズは赤外線ゴールドイメージ炉の特長である高速加熱･冷却､クリーン加熱が行えます｡自在な雰囲気下で加熱する…
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雰囲気可変型ランプ加熱装置 QHCシリーズ/VHCシリーズ
太陽電池/化合物半導体等のプロセス開発や様々なアプリケーションとセットアップが可能。QHC・VHCシリーズは赤外線ゴールドイ…
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赤外線ランプクエンチ装置 CAS-MR59AQ
材料の加熱後に試料を落下させ、水クエンチ不活性ガス雰囲気中で最高1800 ℃まで加熱可能
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超高温ランプアニール装置 HT-RTA59HD
小片試料を1800℃まで10秒で昇温SiCなど高価な試料やその他高融点材料の小片試料をスポット加熱による高い反射効率で、超高温…
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