赤外線ゴールドイメージ炉/RTA装置
ランプ加熱は高速加熱・高速冷却。格段の処理速度！
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雰囲気可変型ランプ加熱装置 QHCシリーズ/VHCシリーズ
太陽電池/化合物半導体等のプロセス開発や様々なアプリケーションとセットアップが可能。QHC・VHCシリーズは赤外線ゴールドイ…
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スポット集光型赤外線ゴールドイメージ炉 MIROシリーズ
スポット集光で超高温熱処理。回転楕円反射面をもち、シングル又はダブルタイプのチャンバと組合せることにより、極めて高い…
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赤外線ランプクエンチ装置 CAS-MR59AQ
材料の加熱後に試料を落下させ、水クエンチ不活性ガス雰囲気中で最高1800 ℃まで加熱可能
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超高温ランプアニール装置 HT-RTA59HD
小片試料を1800℃まで10秒で昇温SiCなど高価な試料やその他高融点材料の小片試料をスポット加熱による高い反射効率で、超高温…
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生産用熱処理炉(ライン設備)
熱処理目的に応じた加熱システム形成。本装置は部材の形状とプロセス上の熱処理目的に応じて加熱炉及び加熱システムが形成さ…
