赤外線ゴールドイメージ炉、ゼーベック係数測定装置(ZEM)など、アドバンス理工は多彩な熱技術をベースに未踏の分野に挑戦します。
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卓上型ランプ加熱装置 MILA-5000シリーズ

小サンプルの研究開発に最適。
高速加熱・高速冷却、クリーン加熱が行えます。
自在な雰囲気下で加熱する事が可能で温度コントローラと雰囲気可変チャンバが一体化した小型で低価格な赤外線ランプ加熱装置です。
加熱操作をUSB接続によりパソコン上で行え手軽にデータ管理出来ます。

用途

  • 強誘電体薄膜の結晶アニール
  • イオン注入後の拡散アニール、酸化膜生成アニール
  • Si、化合物ウェハのシンタリング、アロイング処理
  • ガラス基板の灼熱アニール
  • 熱サイクル、熱衝撃、熱疲労試験
  • 昇温脱離試験、触媒効果試験

特長

  • 50℃/sの高速加熱
  • 真空中、ガス中、ガスフロー中、大気中と任意の雰囲気選択
  • 精密な温度コントロール
  • 卓上型でコンパクトな設計

仕様

型式 MILA-5000-P-N(高温型) MILA-5000P-F(均熱型)
温度範囲 室温~1200℃ 室温~800℃
最高昇温速 ※ 50℃/s(50℃~1200℃)真空中
45℃/s(50℃~1200℃)窒素ガス中
4℃/s(50℃~800℃)真空中
4℃/s(50℃~800℃)窒素ガス中
温度分布 ※ ±2.0℃(ΔT=4℃)at=1200℃真空中
±4.5℃(ΔT=9℃)at=1200℃窒素ガス中
±1.8℃(ΔT=3.6℃)at=500℃真空中
±1.2℃(ΔT=2.4℃)at=500℃窒素ガス中
ランプ 近赤外ランプ 遠赤外ランプ
試料寸法 角20mm×厚2mm
温度制御センサ JIS熱電対 K固定
測定雰囲気 大気中、真空中、ガスフロー中
アプリケーション 真空排気装置(ロータリーポンプセット)
冷却水循環ユニット

※上記昇温速度と温度分布はNi板(W20×L20×t0.5㎜)での計算値です。試料の材質、大きさにより変動する場合があります。

最高昇温速度

MILA-5000-P-N(高温型)

サンプル W20×L20×t0.5(㎜)Ni板材
雰囲気  真空中
定格   200V4kW100%出力

MILA5000-P-F(均熱型)

サンプル W20×L20×t0.5(㎜) Ni板材
雰囲気  真空中
定格   200V1kW100%出力

温度分布

MILA-5000-P-N(高温型)

サンプル W20×L20×t0.5(㎜)Ni板材
雰囲気  真空中
TC(K)測定点

MILA5000-P-F(均熱型)

サンプル W20×L20×t0.5(㎜)Ni板材
雰囲気  N2ガスフロー中
TC(K)測定点

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